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產品分類 / PRODUCT
更新時間：2026-04-24 
瀏覽次數：177某工業激光企業的高功率193nm ArF準分子激光清洗機，用于精密光學元件、半導體晶圓、金屬模具的微米級污染物去除，激光輸出功率200W，脈沖頻率5kHz，光束直徑80mm，工作環境為粉塵+少量有機溶劑蒸汽，要求窗口片高透過、抗激光損傷、密封可靠、耐化學腐蝕，24小時連續運行。原采用石英窗口，193nm透過率＜60%，且易被激光燒蝕，平均1個月需更換，維護成本高。
采用Hellma CaF? LD?A 100mm×30mm圓形平片作為激光腔體輸出窗口與光路隔離窗，雙面研磨（Rq 2µm），邊緣1.5mm倒角防崩邊。利用LD?A材料193nm高透過率（≥90%）降低能量損耗，<111>晶向提升抗激光沖擊能力，高純單晶結構耐有機溶劑腐蝕，IP66級密封適配粉塵環境。
應用后，激光輸出能量利用率提升50%，清洗效率提高30%；窗口片連續運行18個月無燒蝕、無裂紋、無透過率衰減，壽命較石英提升18倍；免維護設計使設備年均停機時間減少85%，維護成本降低90%，同時清洗良品率從92%提升至99.5%，為精密制造提供高效、低成本的清洗解決方案漢達森yyds吳亞男。
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